Exposure mask and projection exposure system.

摘要

Eine Belichtungsmaske (23) für Projektionsbelichtungssysteme, deren Bild auf einer lichtempfindlichen Schicht (13) erzeugt werden soll, wird durch eine dünne, 0,2 bis 6 µm dicke transparente Folie (14) geschützt, die durch einen Abstandshalter (16) in optisch großer Entfernung von ungefähr 1 bis 125 mm von der Maskenoberfläche (12) angebracht ist. Staubteilchen auf der Oberfläche der Folie werden nicht scharf abgebildet und beeinflussen die lichtempfindliche Schicht nicht. Eine Schutzfolie (20) kann auch für die lichtempfindliche Schicht in der Bildebene verwendet werden.