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经营范围
发明名称
BASE MATERIAL FOR FORMING PHOTOMASK
摘要
申请公布号
JPS5469073(A)
申请公布日期
1979.06.02
申请号
JP19770136006
申请日期
1977.11.12
申请人
CHO LSI GIJUTSU KENKYU KUMIAI
发明人
KAWABUCHI KATSUHIRO
分类号
G03F1/00;G03F1/54;H01L21/027;H01L21/302
主分类号
G03F1/00
代理机构
代理人
主权项
地址
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