发明名称 PROCEDE POUR LE DEVELOPPEMENT DES PHOTOGRAMMES D'HUMIDITE RESIDUELLE
摘要 <P>Procédé pour le développement des photogrammes d'humidité résiduelle. </P><P>On procède selon la technique de la pellicule humide, en traitant celle-ci tout d'abord avec une solution éthanolique de NaOH à 5 % (solution I) à environ 13 degrés C, et après l'immersion alcaline, en faisant passer la pellicule exposée, à une température de bain de 50 degrés C, dans un bain contenant un développateur photographique contenant de l'hydroquinone; ce procédé ayant lieu à la lumière du jour (<< procédé de développement humide à deux bains >>). La pellicule développée, fixée, lavée et séchée peut être directement exploitée. </P><P>Utilisation de ce procédé pour enregistrer des écoulements stationnaires de la couche limite.</P>
申请公布号 FR2403582(A1) 申请公布日期 1979.04.13
申请号 FR19780026346 申请日期 1978.09.13
申请人 SIEMENS AG 发明人
分类号 G01F1/00;G01N11/02;G01P13/00;G03C5/00;G03C5/04;G03C5/29;(IPC1-7):G03C5/30;G03B41/00 主分类号 G01F1/00
代理机构 代理人
主权项
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