| 发明名称 |
METHOD OF ETCHING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB1542572(A) |
申请公布日期 |
1979.03.21 |
| 申请号 |
GB19770043899 |
申请日期 |
1977.10.21 |
| 申请人 |
TOKYO SHIBAURA ELECTRIC CO LTD |
发明人 |
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| 分类号 |
C23F1/10;H01L21/306;H01L21/308;H01L21/762;(IPC1-7):B28D5/06 |
主分类号 |
C23F1/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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