| 摘要 |
L'invention se rapporte aux photoconducteurs. Elle concerne un procédé de production d'un revêtement photoconducteur sur un substrat, par application d'une solution, dans un solvant organique, d'un acide polyamide approprié et d'une substance choisie parmi la 2,4,7-trinitro-fluorénone (TNF) et la 2,4,5,7-tétranitro-9-fluorénone, puis par chauffage pour cycliser l'acide polyamique en polyimide. Application en reprographie, le revêtement présentant de très bonnes propriétes de retention de la charge dans l'obscurité et de rapidité de décharge à la lumière.
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