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发明名称 PROCESS FOR ETCHING SIO2
摘要
申请公布号 GB1539700(A) 申请公布日期 1979.01.31
申请号 GB19770018672 申请日期 1977.05.04
申请人 INT PLASMA CORP 发明人
分类号 C01B33/12;H01L21/28;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;(IPC1-7):B28D5/06 主分类号 C01B33/12
代理机构 代理人
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