| 发明名称 |
MASK USED FOR FINE LINE LITHOGRAPHY AND METHOD OF PRODUCING SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5411677(A) |
申请公布日期 |
1979.01.27 |
| 申请号 |
JP19780071437 |
申请日期 |
1978.06.12 |
| 申请人 |
ROCKWELL INTERNATIONAL CORP |
发明人 |
ADEISON BURUUKU JIYOONZU |
| 分类号 |
H01L21/027;H01L21/302;H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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