发明名称 APPAREIL POUR LE DEPOT EN PHASE DE VAPEURS SOUS VIDE
摘要 <P>L'appareil pour dépôt de vapeurs sous vide selon l'invention comprend : un plateau tournant 9 pour supporter des substrats 8 sur lesquels doit être déposée la vapeur, des nacelles d'évaporation 10 et 11, des sources d'alimentation 25 et 26 destinées au chauffage des nacelles, des obturateurs 16 et 17 entraînés par des moyens d'entraînement 35 et 36, au moins un dispositif de contrôle de dépôt 18 à quartz, un dispositif de couplage 19, un compteur de fréquence numérique 29.</P>
申请公布号 FR2396093(A1) 申请公布日期 1979.01.26
申请号 FR19780019740 申请日期 1978.06.30
申请人 HITACHI LTD 发明人
分类号 C23C14/54;G05D5/03;(IPC1-7):C23C13/08 主分类号 C23C14/54
代理机构 代理人
主权项
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