PROCEDE DE DEPOT ELECTROLYTIQUE EN CONTINU, A GRANDE VITESSE, SUR UN SUBSTRAT METALLIQUE EN MOUVEMENT

摘要

L'invention concerne un procédé de dépôt électrolytique en continu à grande vitesse, sur un substrat en mouvement. Dans le cas où un substrat de résistance ohmique non négligeable défile devant une pluralité d'anodes, on constate des déséquilibres de répartition du courant.

Le procédé, selon l'invention, consiste à alimenter chaque groupe d'anodes avec un générateur séparé de courant continu soumis à une régulation d'intensité ou assurant une auto-régulation par mise en série des primaires des transformateurs.

Application à l'étamage électrolytique à grande vitesse de fils de cuivre de petit diamètre