首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
LOW PRESSURE DEPOSITION METHOD FOR IMPURITY
摘要
申请公布号
JPS544063(A)
申请公布日期
1979.01.12
申请号
JP19770068908
申请日期
1977.06.13
申请人
HITACHI LTD
发明人
NIINO KAORU
分类号
H01L21/223
主分类号
H01L21/223
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
组合物、硬质聚氨酯泡沫材料及制冷设备
心可舒的新用途
一种变速器悬置总成的加工方法
一种家用米粉机的米粉制作方法及一种家用米粉机
一种新型自动扶梯梯级滚轮
一种治疗夜尿症的脐部湿敷剂
绕桩式回转平台
一种薯类鲜叶下饭菜的生产方法
一种蓝莓栽培基质及其制备方法
玻璃料、包含其的组合物及使用该组合物制造的电极
部分氢化的具有星型嵌段结构的三元共聚橡胶及其制备方法和应用
一种气举助流水平井找水管柱及方法
与抗炎活性偶联的增强的抗流感剂
一种路由器与中继设备的无线组网方法
一种带备用电源的台灯
人脸验证的方法和装置
一种新型节能抽油机及应用方法
用于数据访问的方法和设备
散热模块
一种用于连续脱胶的流化床反应器