发明名称 HIGHHCONCENTRATION NNTYPE LAYER FORMATION METHOD INTO GALLIUM ARSENIDE
摘要 PURPOSE:To form the n<+>-layer into GaAs through the ion injection by piling Si and the element selected among S, Se and Te.
申请公布号 JPS54863(A) 申请公布日期 1979.01.06
申请号 JP19770065957 申请日期 1977.06.03
申请人 NIPPON ELECTRIC CO 发明人 OKABAYASHI HIDEKAZU
分类号 H01L21/265 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人
主权项
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