发明名称 |
CIRCUIT INTEGRE SEMI-CONDUCTEUR OXYDE-METAL A SYMETRIE COMPLEMENTAIRE |
摘要 |
<P>L'invention concerne les circuits électroniques intégrés. Sur un substrat comprenant deux transistors MOS complémentaires, on prévoit une région supplémentaire en matériau du second type de conductivité formée dans le substrat entre les transistors précités, le fonctionnement de cette région supplémentaire étant tel qu'elle élimine les phénomènes de conduction bipolaire susceptibles d'établir un courant de réaction dans le substrat entre les transistors.</P>
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申请公布号 |
FR2393429(A1) |
申请公布日期 |
1978.12.29 |
申请号 |
FR19780016071 |
申请日期 |
1978.05.30 |
申请人 |
HUGHES MICROELECTRONICS LTD |
发明人 |
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分类号 |
H01L27/092;(IPC1-7):H01L27/04 |
主分类号 |
H01L27/092 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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