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<P>Procédé et appareil pour projeter un faisceau de particules électrisées. </P><P>Procédé pour faire varier et pour projeter un faisceau de particules électrisées qui consiste à préparer, au moins, trois masques; à << éclairer l'ouverture du masque supérieur avec le faisceau; à dévier le faisceau entre certains masques d'amont afin de réduire celui-ci dans la mesure nécessaire pour former l'image voulue sur une cible; et, à dévier le faisceau ainsi réduit entre des masques d'aval afin de découper la section du faisceau pour lui donner exactement la forme de l'image voulue, évitant ainsi le flou de l'image des régions recouvrant les ouvertures des masques d'aval correspondants. L'invention décrit aussi un appareil pour la mise en oeuvre de ce procédé. Application à l'usinage électronique de précision ou le micro-usinage au moyen de faisceaux électroniques, en particulier, pour la fabrication de microcomposants électroniques.</P>
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