发明名称 ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD
摘要
申请公布号 JPS53145477(A) 申请公布日期 1978.12.18
申请号 JP19770060132 申请日期 1977.05.24
申请人 NIPPON ELECTRON OPTICS LAB;RIKAGAKU KENKYUSHO 发明人 GOTOU HIDEKAZU;SOUMA TAKASHI;IDESAWA MASANORI;MIYAUCHI SAKAE
分类号 H01L21/027;H01L21/26 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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