NOUVELLES PLAQUES LITHOGRAPHIQUES A BASE DE PHOTOPOLYMERES ET PROCEDES DE MISE EN OEUVRE

摘要

La présente invention concerne des plaques lithographiques à base de photopolymères et leurs procédés de mise en oeuvre.

On utilise une couche d'ancrage à base d'ester hydrophobe de colloïde susceptible d'être régénéré sous forme de colloïde hydrophile. Après insolation sous un original, le photopolymère est réticulé dans les zones insolées. Il est solubilisé dans un révélateur dans les zones non insolées, la couche d'ester hydrophobe étant régénérée sous forme de colloïde hydrophile. On obtient des plaques lithographiques de longévité améliorée.