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经营范围
发明名称
光罩基底和光罩
摘要
〔课题〕提供适用于多色波曝光之FPD用大型光罩及光罩基底。〔解决手段〕一种光罩基底,用于在透光性基板上制造至少具有灰阶光罩用半透光性膜之FPD装置,其中灰阶光罩具有调整透过量之功能。前述灰阶光罩用半透光性膜系一种在横跨由超高压水银灯放射之至少i线至g线的波长带域中将半透光性膜之透过率(也就是半透过率)之变动幅度控制于5%以下之范围的膜。
申请公布号
TW200732829
申请公布日期
2007.09.01
申请号
TW095148957
申请日期
2006.12.26
申请人
HOYA股份有限公司
发明人
三井胜;佐野道明
分类号
G03F1/08(2006.01);H01L21/027(2006.01)
主分类号
G03F1/08(2006.01)
代理机构
代理人
洪澄文
主权项
地址
日本
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