| 发明名称 |
MANUFACTURE FOR PHOTO MASK |
| 摘要 |
PURPOSE:To prevnet the lowering in pattern accuracy, by fixing Ag photodoped through the crystallization of calcogen glass film under photo mask 7. |
| 申请公布号 |
JPS53134368(A) |
申请公布日期 |
1978.11.22 |
| 申请号 |
JP19770049587 |
申请日期 |
1977.04.28 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
ARII KATSUYUKI |
| 分类号 |
G03C5/56;G03C1/705;G03F1/00;G03F1/54;G03F1/68;G03F1/80;H01L21/027;H01L21/302 |
主分类号 |
G03C5/56 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
