| 发明名称 | 具有加热腔室衬垫的处理室 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种适于覆盖等离子体处理室内部的加热器衬垫组件。在部分实施方式中，一种用于处理室的衬垫组件包括嵌设于主体中的加热元件；一凸缘由主体的一外径往外延伸，并且凸缘包括具有一密封表面的一上表面；以及至少一接触垫由凸缘的上表面延伸至一超过密封表面的高度。接触垫通过使衬垫组件维持与处理室间隔开而促进控制衬垫组件的温度。 | ||
| 申请公布号 | CN101589175A | 申请公布日期 | 2009.11.25 |
| 申请号 | CN200880002923.3 | 申请日期 | 2008.01.15 |
| 申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | 马克·A·福多尔;索菲亚·M·维拉斯泰古依;金·博可因;戴尔·R·杜波依斯 |
| 分类号 | C23F1/00(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐金国 |
| 主权项 | 1.一种用于一处理室的衬垫组件，包括：一主体；一加热器，嵌设于所述主体中；一凸缘，其由所述主体的一外径往外延伸，所述凸缘的一上表面的一部分具有一密封表面；以及至少一接触垫，其由所述凸缘的所述上表面延伸至一高于所述密封表面的高度。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚 | ||