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发明名称 PROCEDIMENTO E GAS PER IL TRATTAMENTO DI DISPOSITIVI SEMICONDUTTORI.
摘要
申请公布号 IT7829676(D0) 申请公布日期 1978.11.10
申请号 IT19780029676 申请日期 1978.11.10
申请人 DIONEX CORP. 发明人
分类号 H01L21/302;C23F4/00;G03F7/42;H01L21/3065;H01L21/311 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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