拡散防止層、その製作方法、薄膜トランジスタ、アレイ基板、及び表示装置

摘要

本発明は、拡散防止層、その製作方法、薄膜トランジスタ、アレイ基板、及び表示装置を提供し、表示装置の製造技術領域に属する。その課題は、従来技術における、ＰＶＤまたはＣＶＤによる二酸化タンタル拡散防止層の製造に必要となる環境温度が高いので、ゲート電極が揮発され、表示装置の性能に影響することを防止することにある。当該拡散防止層の製作方法は、導電基材（１）と陰極（４）を硫酸タンタル溶液（３）中に置き、導電基材（１）を陽極として、通電後に導電基材上（１）に二酸化タンタル拡散防止層を形成する。