| 摘要 |
<P>L'invention concerne des compositions de revêtement photopolymérisables. </P><P>Ces compositions sont constituées de : </P><P>A. 70 à 99 % en poids d'au moins un composé photopolymérisable comportant une double liaison carbone-carbone à insaturation oléfinique photopolymérisable, </P><P>B. 1 à 30 % en poids d'au moins une résine aminoplaste, et C. 0,1 à 20 % en poids par rapport à la somme des composants A + B d'au moins deux photo-amorceurs dont au moins l'un contient un ou plusieurs groupes acides dans sa molécule, ces groupes acides formant des acides lors de la photopolymérisation, et au moins l'un ne comporte pas de tels groupes acides. </P><P>L'invention s'applique en particulier à des compositions formant par photopolymérisation des revêtements adhérant bien aux substrats, en particulier aux métaux, et possédant une bonne résistance aux solvants.</P>
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