| 发明名称 |
EXPOSURE UNIT |
| 摘要 |
PURPOSE:To make the exposing unit making easy for the alignment, even if the mask alignment is difficult with too slight height of unevenness forming the pattern of the semiconductor substrate. |
| 申请公布号 |
JPS53121472(A) |
申请公布日期 |
1978.10.23 |
| 申请号 |
JP19770035450 |
申请日期 |
1977.03.31 |
| 申请人 |
TOKYO SHIBAURA ELECTRIC CO |
发明人 |
TAKAHASHI TOMOKO;KAWABUCHI KATSUHIRO |
| 分类号 |
H01L21/30;H01L21/027;H01L21/302 |
主分类号 |
H01L21/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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