发明名称 PROCEDE DE DEPOT SELECTIF D'UN METAL A LA SURFACE D'UN SUBSTRAT
摘要 L'invention concerne la formation d'un dessin sélectif d'un métal à la surface d'un substrat Elle se rapporte à un procédé qui comprend le traitement de la surface par revêtement d'une partie choisie par un copolymère d'anhydride maléique et d'un composé vinylique. La surface non revêtue peut retenir une espèce colloïdale d'activation contenue dans un sol. La surface traitée subit ensuite un dépôt chimique d'un métal et ensuite, éventuellement, une électrodéposition. Application à la réalisation de circuits imprimés.
申请公布号 FR2383245(A1) 申请公布日期 1978.10.06
申请号 FR19780006970 申请日期 1978.03.10
申请人 WESTERN ELECTRIC CY INC 发明人
分类号 C23C18/16;C23C18/18;C23C18/20;C23C18/30;C23C18/31;C23C18/34;C23C18/40;H05K3/00;H05K3/18;(IPC1-7):C23F17/00;C23C3/00;H05K3/10 主分类号 C23C18/16
代理机构 代理人
主权项
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