发明名称 PATTERN FORMATION METHOD
摘要 PURPOSE:A desired high-molecule resin layer is formed on the substrate via the thin layer of amino silane, polysilazane or cyclo polysilazane of a fixed constitutional respectively. Thus, a micropattern can be formed.
申请公布号 JPS53105980(A) 申请公布日期 1978.09.14
申请号 JP19770020213 申请日期 1977.02.28
申请人 HITACHI LTD 发明人 HONMA YOSHIO;YAMANAKA ICHISUKE;NOZAWA HISAO;HARADA YUKIYOSHI
分类号 H01L21/306;H01L21/027;H01L21/302 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
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