发明名称 DISPOSITIF DE FORMATION D'IMAGE A SEMI-CONDUCTEURS
摘要 <P>Elément de formation de fraction d'image pour dispositif de formation d'image à semi-conducteur, comportant au moins une photodiode à jonction pn et un détecteur de signal lumineux juxtaposé, disposés dans une partie superficielle d'un substrat semi-conducteur à conductibilité d'un premier type. Dans une région semi-conductrice constituant ladite photodiode et à conductibilité de type opposée à celle du substrat, est au moins une région de fenêtre évidant la région semi-conductrice jusqu'au niveau général du substrat et constituée par un ressaut de ce dernier. </P><P>Une telle structure améliore la sensibilité au bleu et la qualité d'image, tant en couleur qu'en noir et blanc, du dispositif.</P>
申请公布号 FR2379914(A1) 申请公布日期 1978.09.01
申请号 FR19780002995 申请日期 1978.02.03
申请人 HITACHI LTD 发明人
分类号 H01L21/8234;H01L27/146;H01L31/113;H04N5/335;H04N5/369;H04N5/374;(IPC1-7):H01L27/14;H04N3/14 主分类号 H01L21/8234
代理机构 代理人
主权项
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