发明名称 PREPARATION DE TITANE OU D'ALLIAGE DE TITANE PAR ELECTROLYSE DE SELS FONDUS
摘要 <P>a. Procédé de dépôt électrolytique. </P><P>b. Procédé de dépôt électrolytique caractérisé en ce qu'on prépare un bain électrolytique de sels fondus contenant un sel du métal à déposer un bain électrolytique ou des alliages des métaux à déposer par voie électrolytique, on place une cathode et une anode dans le bain électrolytique, on utilise pour déposer les particules solides du sel à la surface du tambour, on racle les particules de sel déposées à la surface du tambour de refroidissement, on disperse les particules de sel raclées du tambour de refroidissement, dans le bain d'électrolyse, on procède à un dépôt électrolytique du métal ou de l'alliage voulus sur la cathode à partir du bain d'électrolyse contenant en dispersion, les particules de sel. </P><P>c. Procédé permettant une fabrication en grande série de titane ou d'un alliage de titane.</P>
申请公布号 FR2374435(A1) 申请公布日期 1978.07.13
申请号 FR19770038331 申请日期 1977.12.19
申请人 SONY CORP 发明人
分类号 C25D3/54;C25C3/28;C25D3/66;(IPC1-7):C25C3/28 主分类号 C25D3/54
代理机构 代理人
主权项
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