| 摘要 |
<P>Appareil de fabrication de masques de configuration. Les masques revêtus de produits photosensibles sont placés sur des supports 16 sur un plateau tournant 15. Un rayon issu du laser 25 suit le trajet optique 26, 27, 28, 29, 30 et est réfléchi par le miroir 32 pour tomber verticalement à travers une lentille 33 sur les masques à exposer. Le support 31 du miroir et de la lentille est avancé pas à pas radialement vers le centre du plateau 15 et le laser est modulé sous une commande numérique pour réaliser l'exposition selon une configuration donnée des photomasques grâce au balayage réalise par la combinaison de la rotation et de l'avancement. </P><P>Peut être utilisé pour la fabrication des photomasques de fabrication de circuits intégrés multicouches.</P>
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