发明名称 |
FINE PATTERN FORMING METHOD |
摘要 |
PURPOSE:To form fine patterns by making the baking temperature of PMMA resist at 100 to 105 deg.C. |
申请公布号 |
JPS5376753(A) |
申请公布日期 |
1978.07.07 |
申请号 |
JP19760151895 |
申请日期 |
1976.12.20 |
申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
FURUYA SHIGERU;YAMAMOTO SUMIO |
分类号 |
G03F7/40;G03C1/74;G03F7/039;H01L21/027;H01L21/28;H01L21/302;H01L21/3213 |
主分类号 |
G03F7/40 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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