发明名称 FINE PATTERN FORMING METHOD
摘要 PURPOSE:To form fine patterns by making the baking temperature of PMMA resist at 100 to 105 deg.C.
申请公布号 JPS5376753(A) 申请公布日期 1978.07.07
申请号 JP19760151895 申请日期 1976.12.20
申请人 FUJITSU LTD 发明人 FURUYA SHIGERU;YAMAMOTO SUMIO
分类号 G03F7/40;G03C1/74;G03F7/039;H01L21/027;H01L21/28;H01L21/302;H01L21/3213 主分类号 G03F7/40
代理机构 代理人
主权项
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