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<P>Composition de décapage du silicium polycristallin contenant de l'hydroxyde de tétraméthylammonium et procédé d'application. </P><P>La solution de décapage du silicium polycristallin est constituée par une solution aqueuse de NR4 OH, où R est un groupement alkyle, ayant une concentration molaire comprise entre 0,0001 mole et la limite de solubilité du soluté. Cette solution améliorée de décapage du silicium polycristallin permet une meilleure commande du décapage, dégage moins de chaleur pendant la réaction de décapage, réalise des vitesses de décapage très différentes pour le silicium polycristallin, le bioxyde de silicium et le verre au silicate de phosphore, évite l'introduction d'ions métalliques alcalins et possède une durée de vie plus longue et une plus grande gamme de concentration de composants.</P>
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