| 发明名称 |
STRUTTURA DI FOTORESISTPARTICOLARMENTE ADATTA PER LA DEPOSIZIONE FOTOLITOGRAFICA DI STRISCE METALLICHE PARALLELE SU UN SUBSTRATO DI BASE E PROCEDIMENTO PER LA SUA REALIZZAZIONE. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IT7824955(D0) |
申请公布日期 |
1978.06.26 |
| 申请号 |
IT19780024955 |
申请日期 |
1978.06.26 |
| 申请人 |
CISE CENTRO INFORMAZIONI STUDI ESPERIENZE S.P.A. |
发明人 |
DONZELLI GIAMPIERO |
| 分类号 |
G03F7/38;H01L21/027;H01L21/285;H01L21/336;H01L21/338;(IPC1-7):G03F/ |
主分类号 |
G03F7/38 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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