| 发明名称 |
PROCEDE DE ROGNAGE D'UNE COUCHE PHOTORESISTANTE |
| 摘要 |
<P>Procédé pour appliquer à un substrat une couche photorésistante supportée par une feuille de recouvrement, en stratifiant une face de ladite couche audit substrat et en rognant cette couche le long des bords du substrat. </P><P>On applique un agent d'affaiblissement de couche à la face de ladite couche tournée vers le substrat, et on sépare la feuille de recouvrement de la couche dans la région du substrat. Application à la fabrication des circuits imprimés.</P>
|
| 申请公布号 |
FR2372457(A1) |
申请公布日期 |
1978.06.23 |
| 申请号 |
FR19770035857 |
申请日期 |
1977.11.29 |
| 申请人 |
DU PONT DE NEMOURS AND CY |
发明人 |
|
| 分类号 |
B26D7/18;G03C1/74;G03C5/00;G03F7/004;G03F7/09;G03F7/16;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):G03C1/74;H05K3/06 |
主分类号 |
B26D7/18 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
