| 发明名称 |
VERFAHREN ZUM DOTIEREN EINES SILIZIUMKRISTALLS DURCH EINDIFFUNDIEREN VON BOR BZW. VON PHOSPHOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
ATA1072370(A) |
申请公布日期 |
1978.06.15 |
| 申请号 |
AT19700010723 |
申请日期 |
1970.11.27 |
| 申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
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| 分类号 |
C30B31/02;H01L21/00;(IPC1-7):H01L21/22 |
主分类号 |
C30B31/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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