发明名称 BAIN DE METALLISATION AU NICKEL-PALLADIUM POUR DEPOT ELECTROLYTIQUE ET PROCEDE DE METALLISATION UTILISANT UN TEL BAIN
摘要 <P>Bain de métallisation au nickel-palladium et procédé pour plaquer un alliage de nickel-palladium sur des éléments tels que des connecteurs, des broches ou autres. </P><P>Le bain est constitué par du chlorure de palladosammine, du sulfamate de nickel, du sulfamate d'ammonium et de l'hydroxyde d'ammonium. Les composants 10 à plaquer sont maintenus dans un châssis 18 et immergés dans le bain. Le dépôt de l'alliage palladium-nickel se fait à température ambiante et avec une densité de courant comprise entre 0,3 x 10**-2 et 3 x 10**-2 ampères/cm** 2. </P><P>Ce procédé est utilisé pour revêtir d'un dépôt métallique des composants électriques, notamment des dispositifs de connexion.</P>
申请公布号 FR2370802(A1) 申请公布日期 1978.06.09
申请号 FR19770029875 申请日期 1977.09.28
申请人 IBM 发明人 JEROME J. CARICCHIO, JR ET EDWARD R. YORK;YORK EDWARD R
分类号 H01H11/04;C25D3/56;(IPC1-7):C25D3/56;H01R43/00 主分类号 H01H11/04
代理机构 代理人
主权项
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