MASK VAPOR DEPOSITION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE,申请号JP19760130504-传众专利搜索

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发明名称	MASK VAPOR DEPOSITION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号	JPS5356967(A)	申请公布日期	1978.05.23
申请号	JP19760130504	申请日期	1976.11.01
申请人	HITACHI LTD	发明人	TAKAHASHI SHIGERU;SUGAWARA YOSHITAKA;KAMEI TATSUYA
分类号	H01L21/285;H01L21/28	主分类号	H01L21/285
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