发明名称 |
SHADOW MASK |
摘要 |
PURPOSE:To increase the production yield as well as the intensity for a shadow mask by giving a hardening process using laser beam, etc. |
申请公布号 |
JPS5353251(A) |
申请公布日期 |
1978.05.15 |
申请号 |
JP19760128655 |
申请日期 |
1976.10.25 |
申请人 |
MITSUBISHI ELECTRIC CORP |
发明人 |
NAKAMURA KOUJI;SATOU IWAO |
分类号 |
H01J31/20;C21D1/09;H01J29/07 |
主分类号 |
H01J31/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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