| 发明名称 |
FORMATION METHOD OF PHOTORESIST MASK |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5348477(A) |
申请公布日期 |
1978.05.01 |
| 申请号 |
JP19760122773 |
申请日期 |
1976.10.15 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
NANBA MITSUO;UEHARA KEIJIROU;TAMAOKI YOUICHI;HONMA KOUJI;HIGUCHI HISAYUKI;MAKI MICHIYOSHI |
| 分类号 |
H01L21/312;G03F7/16;H01L21/027;H01L21/314;H01L21/76 |
主分类号 |
H01L21/312 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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