PROCEDE DE FABRICATION D'UN MASQUE PHOTORESISTANT A PARTIR DE COMPOSES DE COPOLYMERES D'ALKYLES HALOGENES

摘要

Procédé de fabrication d'un masque photorésistant à partir de composés de copolymère d'alkyles halogénés caractérisé en ce qu'il comporte les étapes suivantes : le revêtement d'un substrat avec une couche composée essentiellement d'un copolymère contenant 90 à 98 moles pour cent d'un copolymère méthacrylate d'un alkyle inférieur et 2 à 10 moles pour cent d'un polymère de méthacrylate d'un alkyle halogéné ; le chauf-fage de la couche pour créer des liaisons entre les chaînes polymères avec le retrait de l'halogénure d'hydrogène; l'exposition à une radiation à forte énergie et le retrait de la partie exposée de la couche avec un solvant de développement Application à la fabrication de dispositifs intégrés à semi-conducteurs.