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发明名称
ETCHING METHOD OF SILICON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE CONTAINING GOLD
摘要
申请公布号
JPS5339873(A)
申请公布日期
1978.04.12
申请号
JP19760113700
申请日期
1976.09.24
申请人
HITACHI LTD
发明人
MURAYAMA YUKIO;YOKOYAMA HIROSHI
分类号
H01L21/308;H01L21/302
主分类号
H01L21/308
代理机构
代理人
主权项
地址
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