发明名称 |
PRODUCTION OF CHROMIUM MASK |
摘要 |
<p>PURPOSE:To reduce refleciton of light and pattern improve resolving power by oxidizing the surface of a chromium mask through chemical treatment and covering the surface with a chromium oxide.</p> |
申请公布号 |
JPS5339077(A) |
申请公布日期 |
1978.04.10 |
申请号 |
JP19760114026 |
申请日期 |
1976.09.22 |
申请人 |
NIPPON ELECTRIC CO |
发明人 |
IINO TERUO |
分类号 |
C23C22/58;G03F1/00;G03F1/54;H01L21/027;H01L21/30 |
主分类号 |
C23C22/58 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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