| 摘要 |
<P>L'invention concerne un perfectionnement aux appareils fonctionnant sous vide et comportant des faisceaux d'électrons ou d'ions, qui libèrent, par désorption et par des effets secondaires, des particules indésirables. </P><P>L'invention prévoit, pour supprimer cet inconvénient, d'utiliser des métaux à faible taux de désorption, et une modification de la structure superficielle de toutes les surfaces des composants 1, 6, 13 de l'appareil, << vues >> par le rayonnement primaire 8. Cette modification consiste en de nombreux perçages, pratiqués sur la surface des parties 1, 6, 13, << vues >> par le rayonnement primaire 8; elle a pour effet une augmentation de la sensibilité par suppression des particules gênantes et amélioration locale du vide aux endroits déterminants de l'appareil. L'invention est applicable à tous les appareils à faisceau de particules chargées, telles que des électrons et des ions.</P>
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