摘要 |
Dispositif pour le revêtement électrodynamique d'un substrat, caractérisé en ce qu'il comprend : disposé près du - un moyen d'application du revêtement, disposé près du substrat, pour appliquer sur celui-ci des particules chargées d'une polarité donnée, de façon à produire des forces électrostatiques attirant ces particules chargées et les maintenant sur le substrat; - un moyen de post-chargement, disposé au voisinage du substrat, pour y appliquer une charge de ladite polarité donnée, afin d'effectuer ainsi une augmentation des forces électrostatiques maintenant les particules sur le substrat.
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