BAIN ET PROCEDE D'ENLEVEMENT PAR VOIE ELECTROLYTIQUE DE DEPOTS METALLIQUES, TELS QUE LE CUIVRE ET LES ALLIAGES DE CUIVRE, A PARTIR DE SUBSTRATS

摘要

ON PREVOIT UNE COMPOSITION DE BAIN ELECTROLYTIQUE ET UN PROCEDE AMELIORES POUR RETIRER DES DEPOTS RELATIVEMENT EPAIS DE CUIVRE, D'ALLIAGES DE CUIVRE OU DE CHROME A PARTIR D'UN METAL DE BASE FERREUX, COMPRENANT UNE SOLUTION AQUEUSE AYANT UN PH D'ENVIRON 1 A ENVIRON 14 ET SE COMPOSANT ESSENTIELLEMENT DE COMPOSANT D'ENLEVEMENT CONSTITUE D'AMINE, DE COMPOSE NITRE ETOU DE NITRATE; ET DU GLUCOHEPTONATE DE SODIUM PRESENT EN QUANTITE EFFICACE POUR INHIBER L'ATTAQUE DU METAL DE BASE. LA SOLUTION PEUT EN OUTRE INCLURE AU MOINS UN COMPOSE SOLUBLE DANS LE BAIN, CHOISI DANS LE GROUPE SE COMPOSANT D'ACIDE MALIQUE, D'ACIDE OXALIQUE ET DE LEURS MELANGES; AINSI QUE LEURS SELS AVEC LES METAUX DU GROUPE IA, IIA ET LEURS SELS D'AMMONIUM, PRESENTS EN QUANTITE EFFICACE, QUAND ON LES COMBINE AVEC LE GLUCOHEPTONATE DE SODIUM, POUR INHIBER L'ATTAQUE DU METAL DE BASE; ETOU UN AGENT TAMPON FORME D'ACIDE CARBOXYLIQUE COMPRENANT AU MOINS UNE MATIERE CHOISIE DANS LE GROUPE SE COMPOSANT D'ACIDE GLUCONIQUE, D'ACIDE LACTIQUE, D'ACIDE TARTRIQUE, D'ACIDE FUMARIQUE, D'ACIDE CITRIQUE, D'ACIDE ISOASCORBIQUE, D'ACIDE SUCCINIQUE, D'ACIDE ACETIQUE ET DE LEURS MELANGES, AINSI QUE LEURS SELS D'AMMONIUM ET DE METAUX ALCALINS. L'ENLEVEMENT DU DEPOT METALLIQUE EST EFFECTUE EN IMMERGEANT L'OBJET DANS LE BAIN ALORS QU'IL EST CHARGE DE MANIERE ANODIQUE, ET EN FAISANT PASSER UN COURANT ELECTRIQUE A TRAVERS LE BAIN JUSQU'A UNE CATHODE PENDANT UNE PERIODE DE TEMPS SUFFISANTE POUR OBTENIR LA VALEUR SOUHAITEE D'ENLEVEMENT DU DEPOT METALLIQUE.