发明名称 MASQUE POUR LE DEPOT EN PHASE VAPEUR ET SON PROCEDE DE FABRICATION
摘要 Le masque 10 comporte des fentes 12 disposées parallèlement les unes aux autres et à angle droit d'une série de nervures de renforcement 14 qui sont raccordées aux parties 18 du masque situées entre les fentes 12 pour les maintenir en place. Un renforcement plein 16 s'étend autour du masque pour augmenter la rigidité de l'ensemble. Entre chaque paire de nervures adjacentes, l'épaisseur de la matière du masque est réduite pour former une mince membrane 20. Utilisation dans la fabrication des panneaux à plasma.
申请公布号 FR2359908(A1) 申请公布日期 1978.02.24
申请号 FR19770017623 申请日期 1977.06.03
申请人 IBM 发明人 ROBERT HAMMER
分类号 H05K3/14;C23C14/04;C23C14/24;C23C14/34;C23C14/50;G09F9/30;(IPC1-7):23C13/04;09X/ 主分类号 H05K3/14
代理机构 代理人
主权项
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