| 发明名称 |
TREATING METHOD OF RADIOACTIVE WASTE LIQUID |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5317900(A) |
申请公布日期 |
1978.02.18 |
| 申请号 |
JP19760091383 |
申请日期 |
1976.08.02 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
KAMIYA KUNIO;KINOSHITA MITSUO |
| 分类号 |
C02F1/04;B01D1/22;G21F9/00;G21F9/08;G21F9/14 |
主分类号 |
C02F1/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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