发明名称 DISPOSITIVO PER AGGIUSTARE LASTRE DI MATERIALE SEMICONDUTTORE RISPET TO AD UNA MASCHERA DI IRRAGGIAMEN TO PER PRODURRE UNA STRUTTURA IN FOTOVERNICI CON ESPOSIZIONE A RAG GI
摘要
申请公布号 IT1021303(B) 申请公布日期 1978.01.30
申请号 IT19740027200 申请日期 1974.09.12
申请人 SIEMENS AG 发明人
分类号 G01B11/00;G03F9/00;H01L21/00;H01L21/027;(IPC1-7):H01L/ 主分类号 G01B11/00
代理机构 代理人
主权项
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