| 发明名称 |
METHOD OF ADJUSTING CONCENTRATION OF NONNELECTROLYTIC PLATING SOLUTION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS539235(A) |
申请公布日期 |
1978.01.27 |
| 申请号 |
JP19760082917 |
申请日期 |
1976.07.14 |
| 申请人 |
TOKYO SHIBAURA ELECTRIC CO |
发明人 |
TSURUSHIMA TOSHIAKI;KANOU JIROU |
| 分类号 |
C23C18/16;C23C18/31;C23C18/34;C23C18/40;C23C18/44 |
主分类号 |
C23C18/16 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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