| 发明名称 |
PROCESS FOR THE ANTIMICROBIAL CONSERVATION OF PHOTOGRAPHIC LAYERS AS WELL AS MATERIAIS PRODUCED ACCORDING TO IT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EG11339(A) |
申请公布日期 |
1977.12.31 |
| 申请号 |
EG19730000388 |
申请日期 |
1973.10.09 |
| 申请人 |
VEB FOTOCHEM WERKE BERLIN |
发明人 |
NOWAK A;WOLF J |
| 分类号 |
G03C1/37;(IPC1-7):G03C1/04 |
主分类号 |
G03C1/37 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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