| 发明名称 |
PHOTO MASK OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT |
| 摘要 |
PURPOSE:To obtain a photo mask of good adhesiveness by beforehand forming grooves in a transparent plate in the regions corresponding to dicing lines. |
| 申请公布号 |
JPS52153669(A) |
申请公布日期 |
1977.12.20 |
| 申请号 |
JP19760070760 |
申请日期 |
1976.06.16 |
| 申请人 |
TOKYO SHIBAURA ELECTRIC CO |
发明人 |
TANAKA MASAMI |
| 分类号 |
G03F1/60;H01L21/027;H01L21/302 |
主分类号 |
G03F1/60 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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