发明名称 以金属复合物作为有机半导体基质材料之N型掺杂物、有机半导体材料及电子元件之应用方法、其掺杂物及配合价及其制造方法USE OF A METAL COMPLEX AS AN N-DOPANT FOR AN ORGANIC SEMICONDUCTING MATRIX MATERIAL, ORGANIC SEMICONDUCTING MATERIAL AND ELECTRONIC COMPONENT, AND ALSO A DOPANT AND LIGAND AND PROCESS FOR PRODUCING SAME
摘要 本发明系以一种金属复合物作为掺杂有机半导体基质材料用的掺杂物,以改变有机半导体基质材料的电学特性,对有机半导体基质材料而言,这种金属复合物系作为掺杂作用中的一种n型掺杂物。为了让n型掺杂有机半导体也能够使还原电位较低的基质材料达到较高的导电率,本发明建议以一种多电子的电中性金属复合物作为掺杂化合物,此种金属复合物具有一个核下原子,而且这种核心原子最好是一种价电子数至少是16的电中性或有带电荷的过渡金属原子。所使用的复合物可以是多核心的复合物,而且至少具有一个金属-金属键。至少有一种配合价可以和核心原子构成一种pi复合物,这种配合价可以是一种桥接配合价(尤其是hpp)、硼酸盐(Borate)、Carboran、或是三氮环链烷(Triazacycloalkan),或是从下列名单中选出的至少一种负碳离子(Carbanion)碳原子或二价原子:C(碳烯(Carben))、Si(甲烷叉(Silylen))、Ge(亚甲锗烷基(Germylen))、Sn、 Pb。本发明的范围也包括新的n型掺杂物及其制造方法。
申请公布号 TWI287881 申请公布日期 2007.10.01
申请号 TW094108264 申请日期 2005.03.17
申请人 诺瓦发光二极体有限公司 发明人 安斯加尔.维尔纳;奥拉夫.屈尔;西蒙.格斯勒;原田健太郎;霍斯特.哈特曼;安德尔.格吕辛;米夏埃尔.李梅尔特;安德里亚.路克斯
分类号 H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 代理人 蔡清福 台北市中山区中山北路3段27号13楼
主权项 1.一种应用金属复合物的方法,以将该金属复合物 作为掺杂有机半导体基质材料的掺杂物,而改变有 机半导体基质材料的电学特性,其中该金属复合物 构成有关该基质材料的一n型掺杂物,或是一种应 用金属复合物的方法,以制造一电子元件,该电子 元件有一个含有该金属复合物的电子功能作用区, 其中所使用的金属复合物是一电中性的富含电子 金属复合物,其特征为键结至核心原子所有施主原 子是由以下群组所选出:B、Al、Ga、In、Si、Ge、Sn 、Pb、P、As、Sb、Bi、S、Se、Te、N、O。 2.如申请专利范围第1项的应用金属复合物的方法, 其特征为:该核心原子是一电中性的过渡金属原子 ,或是一带电荷的过渡金属原子。 3.如申请专利范围第1项或第2项的应用金属复合物 的方法,其特征为:在该金属复合物的核心原子中, 至少有一个核心原子的形式价电子数是16或是更 多,及/或复合物具有多个核心,而且该金属复合物 的两个金属核心原子之间至少有一个金属-金属键 。 4.如申请专利范围第1的应用金属复合物的方法,其 特征为:至少有一个连结在核心原子上的配合价的 施主原子不同于6段式芳香环的一个芳香族氮原子 。 5.如申请专利范围第1项的应用金属复合物的方法, 其特征为:该金属复合物是一多核心金属复合物, 其配合价至少有1个、多个、或是全部都与至少两 个金属核心原子配位。 6.如申请专利范围第1项的应用金属复合物的方法, 其特征为:该金属复合物的配合价至少有一个或是 全部都是从羧酸盐(Carboxylate)、甲盐(Formamidinate) 、嘧啶并(Pyrimido)-嘧啶(Pyrimidine)脤基盐(Guanidinate) 、脤基盐(Guanidinate)中被选出。 7.如申请专利范围第1项的应用金属复合物的方法, 其特征为:在带有一个施主原子的环中至少有1个 、多个、或是全部的环具有至少一个或多个被置 换或未被置换的带有C1至C20的烷基置换物。 8.如申请专利范围第1项的应用金属复合物的方法, 其特征为:该金属复合物是M2hpp4,带有相同的金属M: 铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、钼、或是钨;M2(脤 基盐(Guanidinat))4 ,带有相同的金属M:铬、锰、铁、 钴、镍、铜、锌、钼、或是钨;M2(甲盐( Formamidinate))4,带有相同的金属M:铬、锰、铁、钴、 镍、铜、锌、钼、或是钨;M2(羧酸盐(Carboxylate))4, 带有相同的金属M:铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌 、钼、或是钨;必要时配合价的一个或若干个氢原 子可以被其他的根(包括烷基根)取代。 9.如申请专利范围第1项的应用金属复合物的方法, 其特征为:该金属复合物在气相状态下的电离电位 <6eV,或是该金属复合物相对于二茂铁(Ferrocen)/二茂 铁离子(Ferrocenium)(Fe/Fe+)氧化电位E(1/2)ox≦-0.09V。 10.一种根据申请专利范围第1项的应用金属复合物 的方法之用途,其用以制造的一半导体材料,该半 导体材料之型式系为设置在一基板上的导电线路 之导电接触层。 11.一种根据申请专利范围第1项的应用金属复合物 的方法之用途,其用以制造含有至少一有机基质化 合物及一n型掺杂物的一有机半导体材料。 12.如申请专利范围第11项的用途,其特征为:掺杂物 与基质分子的克分子掺杂比例及/或掺杂物与聚合 物之单体单元的克分子掺杂比例介于1:1至1:100000 之间。 13.一种根据申请专利范围第1项的应用金属复合物 的方法之用途,用以制造含有一有机基质分子及一 n型掺杂物的一有机半导体材料。 14.一种根据申请专利范围第1项的应用金属复合物 的方法之用途,用以制造具有一个电子作用有效区 域的电子元件,其中该电子作用有效区域系使用至 少一或更多的电中性金属复合物所制造。 15.如申请专利范围第14项的用途,其特征为:该电子 作用有效区域具有一有机半导体基质材料,其与至 少一n型掺杂物进行掺杂,以改善该半导体基质材 料的电学特性。 16.如申请专利范围第14项的用途,其中该电子元件 的型式为有机发光二极体(OLED)、光电管、太阳能 电池、有机二极体、或是有机场效应电晶体,其中 该半导体材料掺杂有以至少或更多如申请专利范 围第1项至第9项的用途中之电中性金属复合物而 表现出该电子元件的电子作用有效部分。 17.一种用于金属复合物的配合价,这种配合价具以 下的结构类型: 其中: --结构单元a至e代表的意义可以是:a=-CR1R2-,b=-CR3R4-, c=-CR5R6-,d=-CR7R8-,e=-CR9R10-,其中R1、R2、R3、R4、R5、R6 、R7、R8、R9、R10同时或分别=H、带有C1至C20的烷基 、芳基、杂芳基、-NR2、或是-OR,而且最好是R1、R3 、R5、R7、R9=H,以及R2、R4、R6、R8、R10=带有C1至C20 的烷基、带有C1至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯 基(Alkenyl)、带有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂 芳基、-NR2、或是-OR,其中R1至R10=H之结构类型65a'为 一例外,其中R1及R2=芳基之结构类型65a'为一例外, 其中在结构类型65a'之R1及R2始终为H,或是: --结构单元a或b或e或d可以是NR,其中R=带有C1至C20的 烷基、带有C1至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯基 (Alkenyl)、带有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂芳 基,或是: --结构单元a及d或是b及e可以是NR,其中R=带有C1至C20 的烷基、带有C1至G20的环烷基、带有C1至C20的链烯 基(Alkenyl)、带有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂 芳基,或是: --结构单元c的C被Si取代, --其中b-d,a-c,及c-e的连结可以是同时或分别是不饱 和的,其中b-d,a-c,及c-e的连结可以是同时或分别是 一个饱和或不饱和环系的一部分,且这个环系可以 含有下列杂元素:O、S、Se、N、P、Si、Ge、Sn,其中c- e=环己基(cyclohexyl)及环已烯基(Cylcohexenyl)之配位置 为一例外,或是: --其中b-d,a-c,及c-e的连结可以是同时或分别是一个 芳香或凝结的芳香环系的一部分,且这个芳香环系 可以含有下列杂元素:O、S、Se、N,其中b-d,a-c,及c-e 为构成苯(Benzen)的一个成份之配合价为一例外, --其中原子E是一主要群组中之一元素,而且最好是 从下列名单中被选出:N、P、As、Sb,但不是一定必 须从这个名单中被选出, --其中结构单元a-E-b可以选择性的是一个饱和或不 饱和环系的一部分,且这个环系可以含有下列杂元 素:O、S、Se、N、P、Si、Ge、Sn,或是: --结构单元a-E-b可以选择性的是一个芳香环系的一 部分,且这个环系可以含有下列杂元素:O、S、Se、N , --其中金属M是一过渡金属,而且最好是W或Mo; 其中: --结构单元a至f代表的意义可以是:a=-CR1R2-,b=-CR3R4-, c=-CR5R6-,d=-CR7R8-,e=-CR9R10-,f=-CR11R12-,其中R1、R2、R3、 R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12=H、带有C1至C20 的烷基、芳基、杂芳基、-NR2、或是-OR,而且最好 是R1、R3、R5、R7、R9、R11=H,以及R2、R4、R6、R8、R10 、R12=带有C1至C20的烷基、带有C1至C20的环烷基、 带有C1至C20的链烯基(Alkenyl)、带有C1至C20的炔基( Alkinyl)、芳基、杂芳基、-NR2、或是-OR,其中R1、R2 、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12=H之结构 类型65b为一例外,其中R9、R10、R11、R12=苯基(Phenyl) 、甲基(Methyl)、烯丙基(Allyl)、RSCH2-、ROCH2-之配合 价为一例外,其中R9=苯基(Phenyl)、R10=H、R11=苯基( Phenyl)、R12之配合价为一例外,其中R1=苯基(Phenyl)之 配合价为一例外,其中R5、R6、R7、R8=苯氧基(Phenoxy) 之配合价为一例外,或是: --结构单元c及/或d的C可以被Si取代,或是: --结构单元a或b或e或f可以是NR,其中R=带有C1至C20的 烷基、带有C1至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯基 (Alkenyl)、带有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂芳 基,或是: --结构单元a及f或是b及e可以是NR,其中R=带有C1至C20 的烷基、带有C1至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯 基(Alkenyl)、带有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂 芳基, --其中a-c,b-d,c-e,及d-f的连结可以是不饱和的,但是a -c及c-e的连结不能同时是不饱和的,b-d及d-f的连结 也不能同时是不饱和的, --其中a-c,b-d,c-e,及d-f的连结可以是一个饱和或不 饱和环系的一部分,且这个环系可以含有下列杂元 素:O、S、Se、N、P、Si、Ge、Sn,或是: --其中a-c,b-d,c-e,及d-f的连结可以是一个芳香或凝 结的芳香环系的一部分,且这个芳香环系可以含有 下列杂元素:O、S、Se、N,其中a-c,b-d,c-e,及d-f为构成 苯(Benzen)的一个成份之配合价为一例外, --其中原子E是一主要族群中之一元素,而且最好是 从下列名单中被选出:N、P、As、Sb,但不是一定必 须从这个名单中被选出, --其中结构单元a-E-b可以选择性的是一个饱和或不 饱和环系的一部分,且这个环系可以含有下列杂元 素:O、S、Se、N、P、Si、Ge、Sn,但结构单元a-E-b为构 成环戊基(Cyclopentyl)及R9至R12=Alkyl(烷基)之喃基( Pyranyl)的一个成份之配合价为一例外,或是: --结构单元a-E-b可以选择性的是一个芳香环系的一 部分,且这个环系可以含有下列杂元素:O、S、Se、N , --其中金属M是一过渡金属,而且最好是W或Mo; 其中: --结构单元a至f代表的意义可以是:a=-CR1R2-,b=-CR3R4-, c=-CR5R6-,d=-CR7R8-,e=-CR9R10-,f=-CR11R12-,其中R1、R2、R3、 R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12可以同时或分 别=H、带有C1至C20的烷基、芳基、杂芳基、-NR2、 或是-OR,而且最好是R1、R3、R5、R7、R9、R11=H,以及R2 、R4、R6、R8、R10、R12=带有C1至C20的烷基、带有C1 至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯基(Alkenyl)、带 有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂芳基、-NR2、或 是-OR,其中R1至R12=H之配合价为一例外,或是: --结构单元c或e的C可以被Si取代,或是: --结构单元a或b或d或f可以是NR,其中R=带有C1至C20的 烷基、带有C1至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯基 (Alkenyl)、带有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂芳 基,或是: --结构单元a及d或是b及f可以是NR,其中R=带有C1至C20 的烷基、带有C1至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯 基(Alkenyl)、带有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂 芳基, --其中a-c,c-e,e-f,及b-d的连结可以是不饱和的,但是a -c,c-e,及e-f的连结不能同时是不饱和的,a-c及c-e的 连结也不能同时是不饱和的,c-e及e-f的连结也不能 同时是不饱和的, --其中a-c,c-e,e-f,及b-d的连结可以是一个饱和或不 饱和环系的一部分,且这个环系可以含有下列杂元 素:O、S、Se、N、P、Si、Ge、Sn,或是: --其中a-c,c-e,e-f,及b-d的连结可以是一个芳香或凝 结的芳香环系的一部分,且这个芳香环系可以含有 下列杂元素:O、S、Se、N,但是E=N且e-f及/或b-d为构 成苯(Benzen)或(Naphthalen)的一个成份的配合价为 一例外,E=N且R7=R8=苯基(Phenyl)的配合价为一例外,E=N 且R3=苯基(Phenyl),基(Benzyl)的配合价为一例外, --其中原子E是一族组元素,而且最好是从下列名单 中被选出:N、P、As、Sb,但不是一定必须从这个名 单中被选出,其中E=N且其七环具有1个以上的不饱 和键的配合价为一例外, --其中结构单元a-E-b可以选择性的是一个饱和或不 饱和环系的一部分,且这个环系可以含有下列杂元 素:O、S、Se、N、P、Si、Ge、Sn,或是: --结构单元a-E-b可以选择性的是一个芳香环系的一 部分,且这个环系可以含有下列杂元素:O、S、Se、N , --其中金属M是一过渡金属,而且最好是W或Mo; 其中: --结构单元a至g代表的意义可以是:a=-CR1R2-,b=-CR3R4-, c=-CR5R6-,d=-CR7R8-,e=-CR9R10-,f=-CR11R12-, g=-CR13R14-,其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R 10、R11、R12、R13、R14可以同时或分别=H、带有C1至C 20的烷基、芳基、杂芳基、-NR2、或是-OR,而且最好 是R1、R3、R5、R7、R9、R11、R13=H,以及R2、R4、R6、R8 、R10、R12、R14=带有C1至C20的烷基、带有C1至C20的 环烷基、带有C1至C20的链烯基(Alkenyl)、带有C1至C20 的炔基(Alkinyl)、芳基、杂芳基、-NR2、或是-OR,或 是: --结构单元c、d、及f的C可以被Si取代,但是结构单 元d及f的C不能同时被Si取代,或是: --结构单元a或b或e或g可以是NR,其中R=带有C1至C20的 烷基、带有C1至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯基 (Alkenyl)、带有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂芳 基,或是: --结构单元a及g或是b及e可以是NR,其中R=带有C1至C20 的烷基、带有C1至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯 基(Alkenyl)、带有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂 芳基, --其中a-c,c-e,b-d,d-f,及f-g的连结可以是不饱和的,但 是a-c及c-e的连结不能同时是不饱和的,b-d,d-f,及f-g 的连结也不能同时是不饱和的,b-d及d-f的连结也不 能同时是不饱和的,d-f及f-g的连结也不能同时是不 饱和的,但是b-d及f-g同时为不饱和之配合价为一例 外, --其中a-c,c-e,b-d,d-f,及f-g的连结可以是一个饱和或 不饱和环系的一部分,且这个环系可以含有下列杂 元素:O、S、Se、N、P、Si、Ge、Sn,或是: --其中a-c,c-e,b-d,d-f,及f-g的连结可以是一个芳香或 凝结的芳香环系的一部分,且这个芳香环系可以含 有下列杂元素:O、S、Se、N,但是c-e及f-g同时是构成 苯(Benzen)环的一个成份的配合价为一例外, --其中原子E是一主要族群中之一元素,而且最好是 从下列名单中被选出:N、P、As、Sb,但不是一定必 须从这个名单中被选出, --其中结构单元a-E-b可以选择性的是一个饱和或不 饱和环系的一部分,且这个环系可以含有下列杂元 素:B、C、N、O、Si、P、S、As、Se、Sb、Te,而且最好 是含有下列杂元素:S、Se、N、P,但不是一定必须是 这些杂元素其中之一,或是: --结构单元a-E-b可以选择性的是一个芳香环系的一 部分,且这个环系可以含有下列杂元素:O、S、Se、N , --其中金属M是一过渡金属,而且最好是W或Mo。 18.一种掺杂有机半导体基质材料的化合物,具以下 的结构类型: 其中: --结构单元a至e代表的意义可以是:a=-CR1R2-,b=-CR3R4-, c=-CR5R6-,d=-CR7R8-,e=-CR9R10-,其中R1、R2、R3、R4、R5、R6 、R7、R8、R9、R10同时或分别=H、带有C1至C20的烷基 、芳基、杂芳基、-NR2、或是-OR,而且最好是R1、R3 、R5、R7、R9=H,以及R2、R4、R6、R8、R10=带有C1至C20 的烷基、带有C1至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯 基(Alkenyl)、带有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂 芳基、-NR2、或是-OR,或是: --结构单元a或b或e或d可以是NR,其中R=带有C1至C20的 烷基、带有C1至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯基 (Alkenyl)、带有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂芳 基,或是: --结构单元c的C被Si取代, --其中b-d,a-c,及c-e的连结可以是同时或分别是不饱 和的, --其中b-d,a-c,及c-e的连结可以是同时或分别是一个 饱和或不饱和环系的一部分,且这个环系可以含有 下列杂元素:O、S、Se、N、P、Si、Ge、Sn,或是: --其中b-d,a-c,及c-e的连结可以是同时或分别是一个 芳香或凝结的芳香环系的一部分,且这个芳香环系 可以含有下列杂元素:O、S、Se、N, --其中原子E是一主要族群中之一元素,而且最好是 从下列名单中被选出:N、P、As、Sb,但不是一定必 须从这个名单中被选出, --其中结构单元a-E-b可以选择性的是一个饱和或不 饱和环系的一部分,且这个环系可以含有下列杂元 素:O、S、Se、N、P、Si、Ge、Sn,或是: --结构单元a-E-b可以选择性的是一个芳香环系的一 部分,且这个环系可以含有下列杂元素:O、S、Se、N , --其中金属M是一种过渡金属,而且最好是W或Mo; 其中: --结构单元a至f代表的意义可以是:a=-CR1R2-,b=-CR3R4-, c=-CR5R6-,d=-CR7R8-,e=-CR9R10-,f=-CR11R12-,其中R1、R2、R3、 R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12=H、带有C1至C20 的烷基、芳基、杂芳基、-NR2、或是-OR,而且最好 是R1、R3、R5、R7、R9、R11=H,以及R2、R4、R6、R8、R10 、R12=带有C1至C20的烷基、带有C1至C20的环烷基、 带有C1至C20的链烯基(Alkenyl)、带有C1至C20的炔基( Alkinyl)、芳基、杂芳基、-NR2、或是-OR,其中R1、R2 、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12=H之结构 类型65b为一例外,或是: --结构单元c及/或d的C可以被Si取代,或是: --结构单元a或b或e或f可以是NR,其中R=带有C1至C20的 烷基、带有C1至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯基 (Alkenyl)、带有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂芳 基,或是: --结构单元a及f或是b及e可以是NR,其中R=带有C1至C20 的烷基、带有C1至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯 基(Alkenyl)、带有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂 芳基, --其中a-c,b-d,c-e,及d-f的连结可以是不饱和的,但是a -c及c-e的连结不能同时是不饱和的,b-d及d-f的连结 也不能同时是不饱和的, --其中a-c,b-d,c-e,及d-f的连结可以是一个饱和或不 饱和环系的一部分,且这个环系可以含有下列杂元 素:O、S、Se、N、P、Si、Ge、Sn,或是: --其中a-c,b-d,c-e,及d-f的连结可以是一个芳香或凝 结的芳香环系的一部分,且这个芳香环系可以含有 下列杂元素:O、S、Se、N, --其中原子E是一种族元素,而且最好是从下列名单 中被选出:N、P、As、Sb,但不是一定必须从这个名 单中被选出, --其中结构单元a-E-b可以选择性的是一个饱和或不 饱和环系的一部分,且这个环系可以含有下列杂元 素:O、S、Se、N、P、Si、Ge、Sn,或是: --结构单元a-E-b可以选择性的是一个芳香环系的一 部分,且这个环系可以含有下列杂元素:O、S、Se、N , --其中金属M是一过渡金属,而且最好是W或Mo; 其中: --结构单元a至f代表的意义可以是:a=-CR1R2-,b=-CR3R4-, c=-CR5R6-,d=-CR7R8-,e=-CR9R10-,f=-CR11R12-,其中R1、R2、R3、 R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12可以同时或分 别=H、带有C1至C20的烷基、芳基、杂芳基、-NR2、 或是-OR,而且最好是R1、R3、R5、R7、R9、R11=H,以及R2 、R4、R6、R8、R10、R12=带有C1至C20的烷基、带有C1 至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯基(Alkenyl)、带 有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂芳基、-NR2、或 是-OR,或是: --结构单元c或e的C可以被Si取代,或是: --结构单元a或b或d或f可以是NR,其中R=带有C1至C20的 烷基、带有C1至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯基 (Alkenyl)、带有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂芳 基,或是: --结构单元a及d或是b及f可以是NR,其中R=带有C1至C20 的烷基、带有C1至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯 基(Alkenyl)、带有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂 芳基, --其中a-c,c-e,e-f,及b-d的连结可以是不饱和的,但是a -c,c-e,及e-f的连结不能同时是不饱和的,a-c及c-e的 连结也不能同时是不饱和的,c-e及e-f的连结也不能 同时是不饱和的, --其中a-c,c-e,e-f,及b-d的连结可以是一个饱和或不 饱和环系的一部分,且这个环系可以含有下列杂元 素:O、S、Se、N、P、Si、Ge、Sn,或是: --其中a-c,c-e,e-f,及b-d的连结可以是一个芳香或凝 结的芳香环系的一部分,且这个芳香环系可以含有 下列杂元素:O、S、Se、N, --其中原子E是一种族元素,而且最好是从下列名单 中被选出:N、P、As、Sb,但不是一定必须从这个名 单中被选出, --其中结构单元a-E-b可以选择性的是一个饱和或不 饱和环系的一部分,且这个环系可以含有下列杂元 素:O、S、Se、N、P、Si、Ge、Sn,或是: --结构单元a-E-b可以选择性的是一个芳香环系的一 部分,且这个环系可以含有下列杂元素:O、S、Se、N , --其中金属M是一种过渡金属,而且最好是W或Mo; 其中: --结构单元a至g代表的意义可以是:a=-CR1R2-,b=-CR3R4-, c=-CR5R6-,d=-CR7R8-,e=-CR9R10-,f=-CR11R12-, g=-CR13R14-,其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R 10、R11、R12、R13、R14可以同时或分别=H、带有C1至C 20的烷基、芳基、杂芳基、-NR2、或是-OR,而且最好 是R1、R3、R5、R7、R9、R11、R13=H,以及R2、R4、R6、R8 、R10、R12、R14=带有C1至C20的烷基、带有C1至C20的 环烷基、带有C1至C20的链烯基(Alkenyl)、带有C1至C20 的炔基(Alkinyl)、芳基、杂芳基、-NR2、或是-OR,或 是: --结构单元c、d、及f的C可以被Si取代,但是结构单 元d及f的C不能同时被Si取代,或是: --结构单元a或b或e或g可以是NR,其中R=带有C1至C20的 烷基、带有C1至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯基 (Alkenyl)、带有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂芳 基,或是: --结构单元a及g或是b及e可以是NR,其中R=带有C1至C20 的烷基、带有C1至C20的环烷基、带有C1至C20的链烯 基(Alkenyl)、带有C1至C20的炔基(Alkinyl)、芳基、杂 芳基, --其中a-c,c-e,b-d,d-f,及f-g的连结可以是不饱和的,但 是a-c及c-e的连结不能同时是不饱和的,b-d,d-f,及f-g 的连结也不能同时是不饱和的,b-d及d-f的连结也不 能同时是不饱和的,d-f及f-g的连结也不能同时是不 饱和的, --其中a-c,c-e,b-d,d-f,及f-g的连结可以是一个饱和或 不饱和环系的一部分,且这个环系可以含有下列杂 元素:O、S、Se、N、P、Si、Ge、Sn,或是: --其中a-c,c-e,b-d,d-f,及f-g的连结可以是一个芳香或 凝结的芳香环系的一部分,且这个芳香环系可以含 有下列杂元素:O、S、Se、N, --其中原子E是一种族元素,而且最好是从下列名单 中被选出:N、P、As、Sb,但不是一定必须从这个名 单中被选出, --其中结构单元a-E-b可以选择性的是一个饱和或不 饱和环系的一部分,且这个环系可以含有下列杂元 素:O、S、Se、N、P、Si、Ge、Sn,或是: --结构单元a-E-b可以选择性的是一个芳香环系的一 部分,且这个环系可以含有下列杂元素:O、S、Se、N , --其中金属M是一种过渡金属,而且最好是W或Mo。 19.一种用以制造根据申请专利范围第18项之化合 物的方法,包括以下的步骤: (a)在有使用还原剂的情况下,以溶解在一种有机溶 剂中的根据申请专利范围第17项的配合价中之一 自由基转换核心金属M的一种无机金属盐,并加热 使其回流, (b)待转换完成并乾燥后,将所获得的掺杂物分离出 来。 20.如申请专利范围第19项的方法,其特征为:以醚( Ether)或是一种芳香族溶剂作为溶剂,或是以此二者 之混合物作为溶剂。 21.如申请专利范围第20项的方法,其特征为:作为溶 剂的醚(Ether)是一种二烷基醚(Dialkyl ether)、环醚( cyclischer Ether)、环聚合醚(cyclischer Polyether)、或是 开链聚合醚(offenkettiger Polyether)。 22.如申请专利范围第19项的方法,其特征为:以一种 非贵重金属作为还原剂。 23.如申请专利范围第22项的方法,其特征为:这种非 贵重金属是钠、钙、及/或铯。 24.如申请专利范围第19项的方法,其特征为:以结晶 、沉淀、及/或昇华进行分离的方法。 25.一种根据申请专利范围范围第17项的配合价在 一过程中的用途,其系用在根据申请专利范围第19 项至第24项中的制造化合物的方法。 26.一种根据申请专利范围第1至9项的金属复合物 之用途,其用以作为一注入层。
地址 德国