对准标记及其形成方法以及半导体之对准方法

摘要

一种对准标记，其配置于基底上。对准标记包括第一介电层与金属层。第一介电层配置于基底上，包括标记沟渠以及接触窗。金属层配置于标记沟渠与接触窗中，其中金属层的表面与第一介电层的表面齐平。由于金属层与第一介电层具有不同的反射率与折射率，因此对准光束以此作为侦测出对准标记之依据。